L’excellence compacte du PVD pour le laboratoire et la R&D

MS 500 et MS 700 – Le système de revêtement PVD idéal pour le laboratoire, la recherche et le développement.

Votre avantage :

• Système ouvert
• Logiciel PVD Pro intuitif et flexible
• Les paramètres sont contrôlés par ordinateur, tous les réglages sont enregistrés dans une recette de revêtement.
• Les paramètres de revêtement sont enregistrés en temps réel – possibilité de reproduire entièrement les processus.
• Contrôle et surveillance à distance
• Entièrement automatisé sur la base de solutions d’automatisation Siemens (Schneider ou Allen Bradley en option)
• Jusqu’à 6 sources magnétron (brevet EP)
• Obturateur virtuel (en option)
• Grande flexibilité en ce qui concerne les éléments de revêtement utilisés
• Grande flexibilité en ce qui concerne la possibilité de développer de nouveaux revêtements
• Contrôle optique des émissions pour les processus réactifs
• Analyseur de gaz résiduel (RGA) en option, intégré dans l’automatisation et pouvant être utilisé pour le contrôle du processus.
• Différentes possibilités de nettoyage au plasma
• Décapage au plasma
• Intégration d’une source d’ions linéaire pour un nettoyage au plasma plus doux et plus intensif des substrats et un nettoyage au plasma plus intensif des substrats

La série MS-Labor réunit de nombreuses innovations dans un boîtier extrêmement compact, facile d’accès et d’entretien. Lors du développement, nous avons veillé à ce que la série MS-Labor soit extrêmement compacte, avec une surface au sol de seulement 1600 x 1600 mm, et qu’elle réunisse tous les composants importants pour son fonctionnement dans un seul boîtier :

1. Groupe pour le revêtement sous vide
   Jusqu’à 6 magnétrons avec un design de champ magnétique spécial
   
2. Secteur des pompes à vide
   Pompes sèches et turbopompes sans entretien et sans huile
3. ystème de régulation des gaz de process
   Jusqu’à 4 gaz de travail, y compris des gaz réactifs comme O₂, C₂H₂
4. Domaine électrique
   Jusqu’à 6 alimentations en courant continu, 1 alimentation en courant continu pulsé avec longueur d’impulsion réglable pour le nettoyage au plasma, le polissage et le dépôt PECVD

Revêtements possibles :

• Métaux
• Céramique de nitrure
• Céramique d’oxyde
• Carbonitrures
• Processus réactifs nécessitant une énergie ionique élevée

Le système a été conçu selon le principe « plug and play » et promet une très grande convivialité en termes d’utilisation et de service.

Le MS 700 est extensible en fonction des besoins du client et sa structure modulaire lui permet de faire face à l’avenir.

Le porte-pièce est conçu de manière flexible, d’autre part, la conception multicathode, avec nos sources de pulvérisation (magnétron) brevetées, permet de réaliser des revêtements PVD individuels et multicouches.

Le design flexible de la série de laboratoires MS intègre des sources d’ions linéaires.

La programmation flexible du logiciel permet la production reproductible de structures multicouches, de revêtements gradués et de nanostructures.

Vos avantages :

• Innovant Intuitif
• « Start/Stop » facile à utiliser
• Vue d’ensemble et contrôle complets de la machine
• Intégration de l’unité de refroidissement
• Tendances continues en direct pour tous les paramètres
• Tous les paramètres sont enregistrés dans une archive historique avec possibilité d’exportation vers Microsoft Excel.
• Interface ouverte pour l’adaptation des paramètres de revêtement
• Sécurisé par des niveaux de commande (opérateur, technique, service)

Dimensions de la cible :

Les cibles métalliques et céramiques, même les matériaux fragiles comme le Cr, Si, Al2O3, peuvent être changées sans collage.